当前位置:首页 > 软件资讯 > 突破技术限制!低温焊助力HBM内存产能提升

突破技术限制!低温焊助力HBM内存产能提升

分区:软件资讯 更新:2023-08-28 18:35:27

导读 近日,随着人工智能市场的爆发,各类关键技术的提升成为行业的焦点。在这一背景下,除了CPU、GPU算力的提升,HBM内存的需求也迅速攀升。然...

近来,随着人工智能市场的爆发,各种关键技术的升级成为业界关注的焦点。在这样的背景下,除了CPU和GPU计算能力的提升,对HBM内存的需求也在快速上升。然而,HBM存储器的生产受到诸如容量限制、高成本和复杂焊接工艺等问题的限制。为了克服这些挑战,MK电子推出了创新的低温焊接技术,为HBM存储器的生产提供了新的可能性。

HBM(High Bandwidth Memory)存储器是高性能计算和人工智能应用的重要组成部分,其性能和效率的提升对整个行业具有重要意义。然而,由于HBM存储器采用TSV(Through Silicon Via)技术,传统的高温焊接技术可能会导致芯片变形等问题。此前主流高温焊接技术采用SAC(Sn-Ag-Cu)锡、银、铜材料,熔点超过250℃,不适合HBM存储器的特殊要求。

为了解决这个问题,MK电子开发了专门适用于HBM存储器的低温焊接技术。这种新的焊接技术使用铋(Bi)、锡(Sn)和银(Ag)制成的焊球,熔点低于150℃,比传统的高温焊接技术低100多度。通过这种低温焊接技术,HBM存储器的生产过程不仅可以提高生产效率,还可以减少高温造成的产品变形和缺陷,从而提高产品的良率和质量。

这一低温焊接技术的突破,不仅为HBM存储器生产带来了新的机遇,也为整个行业的发展注入了新的活力。在三星、SK海力士等公司积极扩大HBM内存生产规模的背景下,这一创新焊接技术有望很快在业界得到广泛应用。通过降低生产成本、提高产能、保证产品质量,这种低温焊接技术将进一步推动高性能计算和人工智能在HBM的应用和发展,为技术进步和产业升级做出贡献。

  • 最新资讯
  • 最新软件